SON KI HUN; Kyung-Mun Kang; Hyung-Ho Park; Hong-Sub Lee
(The Microelectronics And Packaging Society, 2020-03)
원자층 증착법(ALD: atomic layer deposition)으로 성장된 ZnO n-type 산화물 반도체를 이용하여 three terminal memristor (memtransistor) 소자를 제작하여 습도에 따른 그 특성을 관찰하였다. 40 nm 두께의 ZnO 박막을 이용하여channel width 70 μm, length 5 μm, back gate 구조의 memtransistor ...